XRF-薄膜FP法による膜厚測定
背景 蛍光X線分析（XRF）による非破壊での膜厚測定法は広く知られていますが、分析対象試料と標準試料...
鈴木 誠
| 目的 | ポリイミドフィルムの表面が疎水性になるという不良の原因を究明する |
|---|---|
| 手法 | Ｘ線光電子分光分析(XPS) |
| 手法の特徴 | ・試料最表面(数nm)の元素情報を得ることができるため、表面汚染・変色の分析、表面処理の評価に有効 ・元素の特定だけでなく元素の結合状態の解析も可能 |
| 結果 | ・ポリイミドフィルムの疎水部表面にて、Siを検出 ・Si2pスペクトル状態解析より、Siはシリコーン系化合物と判明 |
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