温度可変AFMによるレジストパターンの測定

カテゴリ
半導体  エレクトロニクス  材料・素材  形態観察  分析事例 
タグ
走査型プローブ顕微鏡(SPM/AFM)分析  電子部品、ウェーハ  MEMSプロセス  半導体プロセス 

本田 清樹

B!
目的

加熱によってレジストパターンにどの様な変化が見られるか評価しました。

手法

温度可変AFMを用いて真空中で昇温させながら、各温度ポイントでのレジスト形状を測定しました。

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