SEM/EBSDによるはんだ断面の残留応力調査

カテゴリ
半導体  材料・素材  断面分析  構造解析  分析事例 
タグ
半導体  電子部品、ウェーハ  実装  半導体プロセス  破損・破壊  応力・歪み解析  結晶構造 

鈴木 誠

B!
目的 熱衝撃試験後のIC実装はんだの残留応力を調査
手法 ・走査電子顕微鏡(SEM)
・電子線後方散乱回折法(EBSD)
結果 はんだ内部に残留応力が分布している様子を把握できた
詳細PDFをダウンロード

受託分析・微細加工(FIB加工)のご依頼について

技術課題に対して現象把握~原因推定をお客様と一緒に考え、科学的な視点で調査することにより、原因究明や対策立案をサポートします。お気軽にご相談ください。

受託分析と微細加工(FIB加工)へのお問い合わせはこちら

関連記事

FT-IR(フーリエ変換赤外分光法)を用いた食品包装用フィルムの分析

目的 食品包装用フィルムは、多くの場合多層フィルムが使用されています。FT-IRを用いて多層フィルム...

半導体接合膜上のシミのAFM観察

目的 半導体接合膜上のシミをAFM観察し凹凸情報を取得することで、接合時に影響を及ぼす因子と成り得る...