FIBによるパターン描画
| 目的 | FIB装置によるマスクレスでのパターン描画を行う |
|---|---|
| 手法 | 集束イオンビーム加工 |
| 結果 | ・エッチングによるパターン描画では、1ドットあたり0.1μm程度の大きさで描画が可能 （加工を行う材質、加工条件により最小サイズは変化) ・マスクレスでイオン注入を行うことが可能 ・デポジションによるパターン描画も可能 |
受託分析・微細加工(FIB加工)のご依頼について
技術課題に対して現象把握～原因推定をお客様と一緒に考え、科学的な視点で調査することにより、原因究明や対策立案をサポートします。お気軽にご相談ください。
