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XPSによる表面汚染分析

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XPSによる表面汚染分析
目的 ポリイミドフィルムの表面が疎水性になるという不良の原因を究明する
手法 X線光電子分光分析(XPS)
手法の特徴 ・試料最表面(数nm)の元素情報を得ることができるため、表面汚染・変色の分析、表面処理の評価に有効   
・元素の特定だけでなく元素の結合状態の解析も可能
結果 ・ポリイミドフィルムの疎水部表面にて、Siを検出
・Si2pスペクトル状態解析より、Siはシリコーン系化合物と判明

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