イオンミリングによる微小部断面加工
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| 目的 | イオンミリング法によりワイヤ中央付近で断面を作製しての観察 |
|---|---|
| 手法 | ・イオンミリング加工 ・電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM) |
| 結果 | ワイヤ(25μm)中心にて断面作製・観察ができた |
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